半导体生产过程中的废水处理成为制约行业绿色发展的一大难题，这类废水含重金属、有机溶剂、氟化物等有害物质，对自然水体会造成严重污染。因此，进行有效的废水处理是至关重要的。本文依斯倍将介绍半导体行业废水的特点以及半导体行业废水处理的工艺。

半导体制造过程中产生的废水成分复杂，主要包括：

- 含氟废水：源自蚀刻、清洗过程，含有高浓度氟化物。

- 含重金属废水：来自镀膜、蚀刻等步骤，含有铜、镍、铅等重金属。

- 有机溶剂废水：清洗剂、显影剂等使用后产生的有机物污染。

- 氨氮废水：光阻去除过程产生的氨氮类污染物。

半导体行业废水处理关键技术

含氟废水处理

- 化学沉淀法：加入石灰乳等沉淀剂，生成氟化钙沉淀。

- 吸附法：使用活性碳、沸石等吸附材料去除氟离子。

 含重金属废水处理

- 电沉积法：利用电化学反应，使重金属在阴极析出。

- 离子交换：通过离子交换树脂吸附重金属离子后再生树脂回收。

有机溶剂废水处理

- 高级氧化工艺：如芬顿氧化、臭氧氧化，高效分解有机物。

- 生物降解：针对可生物降解有机物，采用活性污泥或生物膜技术。

氨氮废水处理

- 硝化反硝化：通过微生物作用，将氨氮转化为氮气排放。

半导体行业废水处理与循环利用是一个系统性工程，需要跨学科合作，不断探索新技术、新策略，以期在保障环境质量的同时，支撑半导体行业的持续健康发展。