半导体抛光废水处理与回用是半导体制造过程中的一个重要环节，因为这种废水含有多种污染物，如悬浮物、有机物、金属离子等。有效的处理和回用不仅可以减少对环境的影响，还可以节约宝贵的水资源。下面依斯倍将介绍半导体抛光废水处理回用工艺的文章概要。

半导体抛光废水的处理通常包括预处理、深度处理和回用几个阶段。以下是一些常用的处理技术：

1. 预处理

  - pH调节：通过加入酸或碱来调节废水的pH值，使之接近中性。

  - 混凝沉淀：使用混凝剂（如聚合氯化铝PAC、硫酸亚铁等）和助凝剂（如聚丙烯酰胺PAM）促使悬浮物形成较大的絮体，便于沉淀。

2. 深度处理

  - 高级氧化：例如臭氧氧化、Fenton反应等，用于去除难降解有机物。这是半导体抛光废水处理常用的方法之一。

  - 膜分离：如反渗透（RO）、纳滤（NF）等，用于去除溶解性固体。

  - 离子交换：用于去除金属离子。

3. 回用

  - 再生水回用：经过处理达标的废水可以循环使用，减少水资源的需求。

半导体抛光废水处理与回用是一个复杂的过程，需要综合考虑废水的具体特性和目标处理效果来选择最合适的处理工艺。随着技术的进步，更高效、更环保的处理方法正在不断被开发出来，以满足日益严格的环保要求和实现水资源的最大化利用。